IPL-Saphir-Lichtleiterblock für medizinische Lasergeräte
Der Saphir-IPL-Lichtleiterblock wird für Laser-Schönheitsinstrumente verwendet. Es handelt sich um ein quaderförmiges optisches Glas, alle sechs Seiten sind optisch poliert und eine Endfläche ist mit einer Sperrfilterfolie beschichtet, die im Allgemeinen das Licht unter 575 nm abschneidet, 600 nm bis 1200 nm durchlässt und das durchgelassene Licht vollständig reflektiert wird Der Lichtleiterblock wird schließlich von der anderen Endfläche emittiert und bestrahlt dann die Hautoberfläche für Laserschönheit. Es handelt sich um ein Laserlichtfenster, das bei IPL-Laserschönheitsgeräten verwendet wird.
Saphir verfügt über eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und seine Einkristallstruktur hält hochenergetischen Lasern stand. Bei der Anwendung auf IPL-Geräten können Benutzer ein hervorragendes Komforterlebnis erzielen und absolute Sicherheit gewährleisten. Es handelt sich um ein verbessertes Alternativmaterial für K9-Glas- und Quarzmaterialien.
Die Form dieses Produkts ist im Allgemeinen: Quader, Rechteck und Kegel. Zwei Flächen davon sind leuchtende Flächen.
Die wichtigsten optischen Bänder des Saphirkristall-Lichtleiterblocks sind:
430 nm / 480 nm: Akne / Akne
530 nm: Sommersprossen-/Faltenentfernung
560 nm: Aufhellung und Verjüngung
580 nm: Rote Blutseide vertreiben
640 nm / 670 nm / 690 nm: Haarentfernung
Unsere Fähigkeit
Wir können das Produkt stanzen und schlitzen. Darüber hinaus können wir je nach Kundenwunsch verschiedene Trenn- und Antireflexionsfolien beschichten, um die Energieübertragungsfähigkeit weiter zu verbessern.
Produktmerkmale
● Gute Wärmeleitfähigkeit
● Hohe Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit
● Hohe Härte und Lichtdurchlässigkeit
Maßtabelle des herkömmlichen Saphir-Lichtleiterblocks
| Konventionelles Modell | MMaterialqualität | Lichteintrittsfläche und axiale Richtung | Lichtemittierende Oberfläche und axiale Richtung | Ckundenspezifische Beschichtung |
| 8*40*15 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 8*40（C） | 8*40（C） | Averfügbar |
| 8*40*30 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 8*40（C） | 8*40（C） | Averfügbar |
| 8*40*34 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 8*40（C） | 8*40（C） | Averfügbar |
| 8*40*38 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 8*40（C） | 8*40（C） | Averfügbar |
| 8*60*40 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 8*60（C） | 8*60（C） | Averfügbar |
| 10*50*34 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 10*50（C） | 10*50（C） | Averfügbar |
| 10*50*38 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 10*50（C） | 10*50（C） | Averfügbar |
| 10*50*39 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 10*50（C） | 10*50（C） | Averfügbar |
| 10*50*40 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 10*50（C） | 10*50（C） | Averfügbar |
| 10*60*34 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 10*60（C） | 10*60（C） | Averfügbar |
| 15*50*25 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 15*50（C） | 15*50（C） | Averfügbar |
| 15*50*50 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 15*50（C） | 15*50（C） | Averfügbar |
| 15*60*25 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 15*60（C） | 15*60（C） | Averfügbar |
| 15*60*30 | OOptische Kyropoulos-Methode Saphir | 15*60（C） | 15*60（C） | Averfügbar |
Materialeigenschaften
Saphir ist ein einkristallines Aluminiumoxid (Al2O3). Es ist eines der härtesten Materialien. Saphir verfügt über gute Transmissionseigenschaften im sichtbaren und nahen IR-Spektrum. Es weist eine hohe mechanische Festigkeit, chemische Beständigkeit, Wärmeleitfähigkeit und thermische Stabilität auf. Es wird häufig als Fenstermaterial in bestimmten Bereichen wie der Raumfahrttechnik verwendet, wo Kratzfestigkeit oder hohe Temperaturbeständigkeit erforderlich sind.
| Molekulare Formel | Al2O3 |
| Dichte | 3,95–4,1 g/cm3 |
| Kristallstruktur | Sechseckiges Gitter |
| Kristallstruktur | a = 4,758 Å, c = 12,991 Å |
| Anzahl der Moleküle in der Elementarzelle | 2 |
| Mohs-Härte | 9 |
| Schmelzpunkt | 2050 ℃ |
| Siedepunkt | 3500 ℃ |
| Wärmeausdehnung | 5,8×10-6 /K |
| Spezifische Wärme | 0,418 Ws/g/k |
| Wärmeleitfähigkeit | 25,12 W/m/k (@ 100℃) |
| Brechungsindex | nein =1,768 ne =1,760 |
| dn/dt | 13x10 -6 /K(@633nm) |
| Transmission | T≈80% (0,3～5μm) |
| Dielektrizitätskonstante | 11,5(∥c), 9,3(⊥c) |
Transmissionskurve des optischen Saphirfensters
Produktshow
Hohe Härte und Lichtdurchlässigkeit
Optisch flach und feine Fase
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